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濕法刻蝕工藝
點(diǎn)擊量:847 日期:2023-09-12 編輯:硅時(shí)代
干法刻蝕(Dry Etching)是使用氣體刻蝕介質(zhì)。 常用的干法刻蝕方法包括物理刻蝕(如離子束刻蝕)和化學(xué)氣相刻蝕(如等離子體刻蝕)等。
與干法蝕刻相比,濕法刻蝕使用液體刻蝕介質(zhì),通常是一種具有化學(xué)反應(yīng)性的溶液或酸堿混合液。 這些溶液可以與待刻蝕材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)刻蝕。 硅濕法刻蝕是一種相對(duì)簡(jiǎn)單且成本較低的方法,通常在室溫下使用液體刻蝕介質(zhì)進(jìn)行。
然而,與干法刻蝕相比,它的刻蝕速度較慢,并且還需要處理廢液。 每個(gè)目標(biāo)物質(zhì)都需要選擇不同的化學(xué)溶液進(jìn)行刻蝕,因?yàn)樗鼈兙哂胁煌墓逃行再|(zhì)。 例如,在刻蝕SiO2時(shí),主要使用HF; 而在刻蝕Si時(shí),主要使用HNO3。 因此,在該過(guò)程中選擇適合的化學(xué)溶液至關(guān)重要,以確保目標(biāo)物質(zhì)能夠充分反應(yīng)并被成功去除。
“各向同性”和“各向異性”
在介紹濕法蝕刻和干法蝕刻的區(qū)別時(shí),必不可少的詞是“各向同性”和“各向異性”。各向同性是指物質(zhì)和空間的物理性質(zhì)不隨方向變化,各向異性是指物質(zhì)和空間的物理性質(zhì)隨方向不同而不同。各向同性蝕刻是指在某一點(diǎn)周?chē)g刻進(jìn)行相同量的情況,各向異性蝕刻是指蝕刻在某一點(diǎn)周?chē)鶕?jù)方向不同進(jìn)行的情況。例如,在半導(dǎo)體制造過(guò)程中的刻蝕中,往往選擇各向異性刻蝕,以便只刮削目標(biāo)方向,而留下其他方向。
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