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壓力傳感器mems設計和工藝流程

點擊量：2494 日期：2021-10-21 編輯：硅時代

　　MEMS壓力傳感器類型眾多，其中屬硅壓阻式壓力傳感器和硅電容式壓力傳感器應用最為廣泛，技術最為成熟。
　　涉及的主要工藝流程包括：薄膜制備、刻蝕、鍵合、封裝。
　　運用到大量且復雜的mems設計工藝技術，有：薄膜制備技術、濺射技術、摻雜技術、刻蝕技術、鍵合技術、封裝技術等。

　　在實際操作中，工藝步驟設計應該以簡單、高成本效益為原則，根據(jù)最終設計方案的差異，工藝流程也有不同。

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