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2023-09-13
化學(xué)鍍鎳技術(shù)是采用金屬鹽和還原劑,在材料表面上發(fā)生自催化反應(yīng)獲得鍍層的方法。到目前為止,化學(xué)鍍鎳是國(guó)外發(fā)展最快的表面處理工藝之一,且應(yīng)用范圍也...
2023-09-12
干法刻蝕(Dry Etching)是使用氣體刻蝕介質(zhì)。 常用的干法刻蝕方法包括物理刻蝕(如離子束刻蝕)和化學(xué)氣相刻蝕(如等離子體刻蝕)等。 與干法蝕刻相...
2023-09-11
開發(fā)EUV光源面臨的最大挑戰(zhàn) 在于。如何在提高EUV光源瓦數(shù)的同時(shí),降低等離子氣氛中微粒、高速粒子和其它污染物,否則光源將會(huì)快速惡化。EUV光...
2023-09-08
對(duì)于光刻機(jī)而言,最核心的技術(shù)就是光源,光刻機(jī)按光源技術(shù)進(jìn)步次序可分為紫外光(UV)、深紫外光(DUV)、極紫外光(EUV)三大類。極紫外光刻...
2023-09-07
磁控濺射(Magnetron Sputtering)是一種常見的物理氣相沉積 (PVD) 工藝,是制造半導(dǎo)體、磁盤驅(qū)動(dòng)器和光學(xué)膜層的主要薄膜沉積方法。磁控濺射具有...
2023-09-06
(一)硅表面微機(jī)械加工技術(shù) 美國(guó)加州大學(xué)Berkeley分校的Sensor and Actuator小組首先完成了三層多晶硅表面微機(jī)械加工工藝,確立了硅表面微加工工藝...
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